Molto 0100-20453

Parametri del prodotto

Protocollo di comunicazione: standard di autobus industriale Devicenet, supporta la trasmissione di dati ad alta velocità e il networking multi-nodo

Configurazione del canale I/O:

Canale di input digitale: supporta l'acquisizione del segnale DC da 24 V, protezione dell'isolamento fotoelettrico, tempo di risposta ≤1ms.

Canale di uscita digitale: capacità di azionamento 0,5a/canale, corrente di carico massima 2A, compatibile con il controllo della valvola del relè/solenoide

Caratteristiche elettriche:

Tensione operativa: 24 V CC ± 10%

Consumo energetico: ≤15W (carico completo)

Temperatura operativa: da -20 ° C a 70 ° C 

Caratteristiche di 0100-20453

1. Controllo industriale in tempo reale

AMAT 0100-20453 raggiunge la sincronizzazione del segnale di microsecondi attraverso il protocollo Devicenet per garantire il coordinamento preciso delle azioni del robot di trasferimento di wafer, della valvola a vuoto e di altri attuatori, riducendo i ritardi di processo

2. Design ridondante ad alta affidabilità

La scheda ha circuiti di isolamento e filtraggio del segnale a doppia potenza integrati. AMAT 0100-20453 può funzionare stabilmente nel forte ambiente di interferenza elettromagnetica degli impianti a semiconduttore, con MTBF (tempo medio tra guasti) ≥ 50.000 ore.

3. Espansione flessibile e funzioni diagnostiche

0100-20453 supporta l'espansione modulare online, compatibile con un massimo di 32 nodi I/O; Chip di autodiagnosi incorporato, può segnalare guasti eccessivamente e corto in tempo reale, accorciamento dei tempi di inattività della manutenzione dell'attrezzatura.

4. Integrazione profonda dei dati del processo

AMAT 0100-20453 si collega direttamente al sistema di controllo centrale di AMAT centura, endura e altre piattaforme per ottenere una raccolta senza soluzione di continuità e il controllo a circuito chiuso di dati come il rilevamento della pressione della camera di attacco e lo stato della valvola di flusso del gas

Scenari di applicazione

Controllo del processo di incisione

Nell'incisione del plasma, guidare la valvola del solenoide di iniezione del gas e monitorare lo stato dell'interruttore di pressione della camera in tempo reale per garantire la stabilità di reazione

Monitoraggio della deposizione di film sottile

Collegare il sensore di temperatura e la valvola dell'acqua di raffreddamento dell'attrezzatura CVD per prevenire gli strati di film irregolari causati dal surriscaldamento del wafer

Sistema di trasferimento di wafer

Controlla il segnale di serraggio dell'effettore finale del braccio robotico per ottenere una gestione non distruttiva di wafer da 300 mm